HHV TF600真空鍍膜系統(tǒng)用于研發(fā)和生產(chǎn)
HHV TF600的設(shè)計在于提高工藝等級.客戶可選擇低成本PLC控制或完全PC控制. 600mm 寬腔體可選渦輪分子泵或冷凝泵,同時可用于離子束沉積和刻蝕.
憑借 600mm寬的腔室,客戶可選擇多種沉積模式和蒸發(fā)源以達到*大的生產(chǎn)效率.
|
品牌概述
|
|
HHV Ltd 成立于1960年,隸屬于印度班加羅爾HHV Pvt., 是一家歷史*悠久的薄膜和真空技術(shù)公司. 該公司擁有眾多研究所,大學院校及工業(yè)生產(chǎn)客戶。近年來,HHV Pvt成為Edwards的制造商,生產(chǎn)如Auto306, Auto500 和TF600 等現(xiàn)代薄膜沉積系統(tǒng)。.
|
 應(yīng)用領(lǐng)域
|
|
TF600由PLC控制.
TF600帶PLC控制給予研發(fā)型客戶一套實用且低成本的工具. 工業(yè)標準觸屏式PLC在沉積工藝時控制真空系統(tǒng).
工藝控制選件可一鍵完成多層沉積工藝循環(huán).
TF600由PC控制
TF600可完全由PC控制.PC運行給予Windows的SCADA系統(tǒng)軟件. 單一界面完整設(shè)置工藝控制程序.
控制系統(tǒng)自動排序且記錄蒸發(fā)和真空數(shù)據(jù)的日志.
|
|
產(chǎn)品特點
|
|
HHV TF600真空鍍膜系統(tǒng)用于研發(fā)和生產(chǎn)
HHV TF600的設(shè)計在于提高工藝等級.客戶可選擇低成本PLC控制或完全PC控制. 600mm 寬腔體可選渦輪分子泵或冷凝泵,同時可用于離子束沉積和刻蝕.
憑借 600mm寬的腔室,客戶可選擇多種沉積模式和蒸發(fā)源以達到*大的生產(chǎn)效率.
|
|
技術(shù)參數(shù)
|
-
熱阻蒸發(fā)源,電子束蒸發(fā)源 , DC 和 RF濺射源
-
離子束沉積和離子束刻蝕
-
附加手動控制源
-
石英舟
-
完全PC控制
|
Auto500真空鍍膜系統(tǒng)中國代理創(chuàng)世杰科技有限公司
網(wǎng)址: http://www.micropowergroup.com
郵件:bowenzhang@micropowergroup.com